Modificación superficial del óxido de grafeno mediante tratamiento con plasma: una revisión
DOI:
https://doi.org/10.68038/nsbj9c44Palabras clave:
óxido de grafeno, plasma, modificación superficial, ingeniería de superficies, materiales bidimensionalesResumen
El óxido de grafeno (og) es un material bidimensional con propiedades fisicoquímicas altamente ajustables, cuya modificación superficial resulta clave para aplicaciones avanzadas. En este contexto, los tratamientos por plasma representan una estrategia eficiente, limpia y controlable para inducir reducción, dopaje y funcionalización selectiva. Esta revisión analiza de manera comparativa el efecto de distintos tipos de plasma (H₂, O₂, N₂/NH₃, Ar, CH₄ y plasmas atmosféricos) sobre la química superficial del og, estableciendo correlaciones entre los parámetros de proceso, los grupos funcionales introducidos o eliminados y las propiedades finales del material. Se observa que los plasmas reductores (H₂ y Ar) disminuyen el contenido de grupos oxigenados y aumentan la conductividad eléctrica, mientras que los plasmas reactivos (N₂/NH₃) inducen dopaje con nitrógeno y modifican la estructura electrónica. Por su parte, el plasma de O₂ permite controlar la densidad de grupos funcionales, y los plasmas carbonados (CH₄) contribuyen a la reparación de defectos estructurales. Finalmente, se discuten aplicaciones en sensores, membranas, electrónica flexible y biomedicina, destacando los compromisos entre la reducción, los defectos y la funcionalización. Asimismo, se analizan las limitaciones actuales en la reproducibilidad, la escalabilidad y el control fino del dopaje, así como las tendencias emergentes en el plasma atmosférico, los procesos roll-to-roll y el plasma asistido por inteligencia artificial.
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