Tobías López, Alondra Lizeth, et al. «Influencia de los parámetros de depósito de películas delgadas semiconductoras de óxido de cobre por SILAR». Cienciacierta, vol. 19, n.º 75, noviembre de 2025, pp. 146-61, https://revistas.uadec.mx/CienciaCierta/article/view/548.