Tobías López, A.L. et al. (2025) «Influencia de los parámetros de depósito de películas delgadas semiconductoras de óxido de cobre por SILAR», CienciAcierta, 19(75), pp. 146–161. Disponible en: https://revistas.uadec.mx/CienciaCierta/article/view/548 (Accedido: 10 octubre 2026).