Tobías López AL, Martínez Landeros VH, García Cerda LA, García Villarreal S. Influencia de los parámetros de depósito de películas delgadas semiconductoras de óxido de cobre por SILAR. CC. 2025;19(75):146-161. Accedido julio 12, 2026. https://revistas.uadec.mx/CienciaCierta/article/view/548